研究支援分野

高真空装置(真空チャンバー)

実験設備から生産設備までの用途に応じた真空チャンバーを設計・製造いたします。

特徴

仕様によりガス放出の少ない、クリーンな真空が得られます。
実験設備から生産設備までの用途に応じた真空チャンバーを設計・製造いたします。

多相プラズマ発生装置

ACプラズマ技術により、低コストで高性能ナノ材料の大量合成ができます。
★超高温10,000℃  ★AC電源  ★広域アーク ★高効率  ★無害化処理

特徴

超高温10,000℃で高融点材料の溶解、先端技術・極材料の合成、難処理物質の有害化や分解ができます。
汎用性が高く、低コストな交流電源仕様。
広いアーク領域で一度に多くの合成・分解処理が可能。
滞留時間が長いため熱効率が高く省エネルギー。
試験機から生産機スケールまで対応。設計、システム構築、メンテナンスまでトータルにバックアップ。